【光学EDI超纯水设备】反渗透+EDI模块技术

设备*称：EDI超纯水设备

   行业用途：工业清洗

   设备水量：12T（可按照客户需求定制）

   生产水量：12T/小时

   工作方式：24小时连续工作

   控制方式：全自动控制

   进水温度：10℃—35℃

   进水水质：自来水  地下水

   出水水质：纯水（电导率≤0.1us/cm以内）

   纯水效率：65%以上

   额定电压：380V

   原水泵功率：4.4KW/小时

   高压泵功率：15KW/小时

光学EDI超纯水设备介绍

超纯水在光学*域中的重要作用日益突出，超纯水水质已成为影响光学器件产品质量、生产成品率及生产成本的重要因素之一，光学EDI超纯水设备采用当反渗透+EDI模块技术，前置预处理配套使用加反渗透处理，有效去除水中各种盐份及杂质，然后运用EDI模块进一步提升水质，使出水达到光学行业用水要求，超纯水设备主要应用在光学*域的以下几个方面：

1：清洗需用超纯水，如果使用其它水中含有氯离子，电容器就会产生漏电。

2：在电子管生产中，电子管阴*需要涂碳酸盐，如其中混入杂质，就会影响电子的发射， 进而影响电子管的放大性能及寿命，因此其配液要使用光学EDI超纯水设备或电子工业用edi超纯水设备生产的超纯水。

3：在显象管和阴*射线管生产中，其荧光屏内壁用喷涂法或沉淀法附着一层荧光物质，是锌或其他金属的硫化物组成的荧光粉颗粒并用硅酸钾粘合而成，其配制也需用超纯水，如果水中含铜在8ppb以上，就会引起发光变色；含铁在50ppb以上就会使发光变色、变 暗、闪光跳跃；含奇有机物胶体、微粒、细菌等，就会降低荧光层强度及其与玻壳的粘附力，并会造成气泡、条迹、漏光点等废次品所以要用到光学EDI超纯水设备生产出来的水。

4：显象管荧光屏生产的 12个工序中，玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗等5个工序需使用超纯水。晶显示器的屏面需有超纯水清洗和用超纯水配液，如水中存在着金属离子、微生物、微粒等杂质，就会使液晶显示电路发生故障，影响液晶屏质量不良品会增多。

所以光学行业对超纯水水质要求也越来越高。而采用光学EDI超纯水设备生产的超纯水作为清洗用水的超声波清洗设备是目前国际社会公认的**的清洗方式。

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